[发明专利]基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法及装置有效
| 申请号： | 201811157255.3 | 申请日： | 2018-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN109164683B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 阎江;梁文青 | 申请（专利权）人： | 墨研计算科学（南京）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F30/392 |
| 代理公司： | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人： | 逯长明;许伟群 |
| 地址： | 210031 江苏省南京市江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法及装置。该方法包括：根据光源函数和光瞳函数，建立交叉传递函数；对交叉传递函数进行奇异值分解，得到至少一个频域核函数；确定掩模版图形划分成的至少一个矩形，以及至少一个矩形中每个矩形的特征信息；确定每个矩形各自对应的矩形投影系数和至少一个频域核函数中每个频域核函数各自对应的核函数投影系数；根据矩形投影系数，核函数投影系数和每个矩形的特征信息，确定用户指定位置上的光强分布。本申请中，通过核函数投影系数和矩形投影系数，快速确定光强分布。由于掩模版图形划分的矩形中存在重复矩形，因此，计算矩形投影系数时能够避免重复计算，减少计算时间，提高光刻效率。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 模版 图形 处理 分布 快速 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种基于掩模版图形处理的光强分布快速确定方法，其特征在于，所述方法包括：根据光源函数和光瞳函数，建立交叉传递函数；对所述交叉传递函数进行奇异值分解，得到至少一个频域核函数；确定掩模版图形划分成的至少一个矩形，以及所述至少一个矩形中每个矩形的特征信息，所述特征信息包括：矩形的长，矩形的宽和矩形中心的坐标；确定所述每个矩形各自对应的矩形投影系数和所述至少一个频域核函数中每个频域核函数各自对应的核函数投影系数；根据所述矩形投影系数，所述核函数投影系数和所述每个矩形的特征信息，确定用户指定位置上的光强分布。
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