[发明专利]显示用基板母板、显示面板母板及显示面板的制备方法在审
| 申请号： | 201811161252.7 | 申请日： | 2018-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN109143651A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 黎敏;熊强;刘超;戴于力;万彬 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明实施例提供了显示用基板母板、显示面板母板及显示面板的制备方法，涉及显示技术领域，可解决清洗显示面板母板时，清洗液腐蚀位于显示面板母板边缘的对位标记图案的问题。显示用基板母板包括：设置在衬底基板的第一表面上的第一对位标记图案；还包括：透明的保护图案，所述保护图案至少覆盖位于所述第一表面边缘的所述第一对位标记图案；其中，所述第一对位标记图案包括第一子对位标记图案和/或第二子对位标记图案，所述第一子对位标记图案用于在所述衬底基板的第二表面上形成图案的对位曝光，所述第二子对位标记图案用于切割对位；所述第一表面和所述第二表面为所述衬底基板相对的两个表面。 | ||
| 搜索关键词： | 对位标记 母板 显示面板 图案 衬底基板 第一表面 基板 保护图案 第二表面 对位 制备 清洗液 透明的 切割 清洗 腐蚀 曝光 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种显示用基板母板，其特征在于，包括：设置在衬底基板的第一表面上的第一对位标记图案；还包括：透明的保护图案，所述保护图案至少覆盖位于所述第一表面边缘的所述第一对位标记图案；其中，所述第一对位标记图案包括第一子对位标记图案和/或第二子对位标记图案，所述第一子对位标记图案用于在所述衬底基板的第二表面上形成图案的对位曝光，所述第二子对位标记图案用于切割对位；所述第一表面和所述第二表面为所述衬底基板相对的两个表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司，未经京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811161252.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种固态全反射显示面板及显示装置
- 下一篇：一种复合型遮光盖板
