[发明专利]光源衰减装置及光刻机有效

专利信息
申请号: 201811161692.2 申请日: 2018-09-30
公开(公告)号: CN110967930B 公开(公告)日: 2021-06-11
发明(设计)人: 王彦飞;周伟;章富平 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 代理人: 王宏婧
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种光源光源衰减装置,包括第一衰减模块、第二衰减模块、水平运动机构和垂向运动机构;所述第一衰减模块包含第一透光区域和第二透光区域;所述第二衰减模块上包含与所述第一透光区域配合的第三透光区域和与所述第二透光区域配合的第四透光区域;所述水平运动机构与所述第一衰减模块连接,以调整所述第一透光区域或第二透光区域对准光源;所述垂向运动机构设置于所述水平运动机构上,所述垂向运动机构还与所述第二衰减模块相连,使所述第二衰减模块与所述第一衰减模块能够在垂向上发生相对位移,从而使所述第一透光区域和第二透光区域的综合透光率能够均匀的变化。
搜索关键词: 光源 衰减 装置 光刻
【主权项】:
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