[发明专利]用于原子层沉积的系统和方法

摘要

原子层沉积(ALD)方法可以包含将第一反应物蒸气脉冲输送到反应器组件中。向第一反应物气体管线供应所述第一反应物蒸气。以第一流动速率向第一非活性气体管线供应非活性气体。借助于第一进料管线将所述第一反应物蒸气和所述非活性气体馈送到所述反应器组件。通过以高于所述第一流动速率的第二流动速率向所述第一非活性气体管线供应所述非活性气体来吹扫所述反应器组件。可以将所述非活性气体的第一部分沿着所述第一反应物气体管线的扩散屏障部分反向馈送以提供在所述第一非活性气体管线上游的惰性气体阀(IGV)。可以借助于所述第一进料管线将所述非活性气体的第二部分馈送到所述反应器组件。

主权项

1.一种原子层沉积(ALD)方法，包括：将第一反应物蒸气脉冲输送到反应器组件中，所述脉冲输送包括：向第一反应物气体管线供应所述第一反应物蒸气；以第一流动速率向第一非活性气体管线供应非活性气体；和借助于第一进料管线将所述第一反应物蒸气和所述非活性气体馈送到所述反应器组件；以及吹扫所述反应器组件，所述吹扫包括：以高于所述第一流动速率的第二流动速率向所述第一非活性气体管线供应所述非活性气体；将所述非活性气体的第一部分沿着所述第一反应物气体管线的扩散屏障部分反向馈送以提供在所述第一非活性气体管线上游的惰性气体阀(IGV)；和借助于所述第一进料管线将所述非活性气体的第二部分馈送到所述反应器组件。