[发明专利]卡盘工作台机构在审
申请号: | 201811181553.6 | 申请日: | 2018-10-11 |
公开(公告)号: | CN109671662A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | 关家一马 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/683 | 分类号: | H01L21/683 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 于靖帅;乔婉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 提供卡盘工作台机构,能够对翘曲的形状的板状物进行保持。卡盘工作台机构是具有卡盘工作台、静电吸附部以及真空吸附部的复合卡盘工作台机构。卡盘工作台具有作为对板状物进行保持的保持面的上表面。静电吸附部具有电极,该电极设置于卡盘工作台的内部,通过被提供电力而使作为保持面的上表面带电,从而对板状物进行静电吸附。真空吸附部具有多孔部,该多孔部与上表面形成为同一水平面且与吸引源连通,并且设置有作为吸引口的微细的孔。控制单元实施对电极的电力提供和对多孔部的负压提供,通过复合力对板状物进行吸附。 | ||
搜索关键词: | 卡盘工作台 静电吸附 多孔部 上表面 对板 状物 真空吸附部 工作台机构 同一水平面 电极设置 电力提供 复合卡盘 电极 微细 板状物 对电极 复合力 吸引口 吸引源 带电 负压 翘曲 吸附 连通 | ||
【主权项】:
1.一种卡盘工作台机构,其是具有静电吸附部和真空吸附部的复合卡盘工作台机构,其中,该卡盘工作台机构具有:卡盘工作台,其具有对板状物进行保持的保持面;电极,其设置于该卡盘工作台的内部,通过被提供电力而使该保持面带电,从而对该板状物进行静电吸附;吸引口,其形成于该保持面且与吸引源连通;以及控制单元,其实施对该电极的电力提供和对该吸引口的负压提供,通过复合力对该板状物进行吸附。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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