[发明专利]一种基片的定点离子注入装置及注入方法有效
| 申请号： | 201811183958.3 | 申请日： | 2018-10-11 |
| 公开（公告）号： | CN109256314B | 公开（公告）日： | 2020-08-28 |
| 发明（设计）人： | 许波涛;彭立波;钟新华;程文进;颜秀文;徐松 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | H01J37/317 | 分类号： | H01J37/317;H01J37/20 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 周长清;戴玲 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本发明公开了基片的定点离子注入装置及注入方法，装置包括控制单元、真空腔室、基片定位装置和机器视觉系统，基片定位装置包括基片座、掩盖板、第一X轴移动机构、第二X轴移动机构、第一Y轴移动机构和第二Y轴移动机构，基片座设于第一X轴移动机构上，掩盖板设于第二X轴移动机构上，掩盖板上设有束流穿孔，机器视觉系统用于检测基片上注入点位置以及束流穿孔中心位置，掩盖板可移动以使束流穿孔的中心位置与基片上的注入点位置对正。方法包括对真空腔体抽真空；移动基片座测基片上注入点位置；移动掩盖板测束流穿孔中心位置，掩盖板移动，使束流穿孔的中心位置与注入点的位置对正；同步移动基片座和掩盖板至离子束注入口下方；启动离子束。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 定点 离子 注入 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基片的定点离子注入装置，其特征在于：包括控制单元、真空腔室(1)、设于真空腔室(1)内的基片定位装置和设于真空腔室(1)外的机器视觉系统(2)，所述基片定位装置包括基片座(3)、掩盖板(4)、第一X轴移动机构(5)、第二X轴移动机构(6)、第一Y轴移动机构(7)和第二Y轴移动机构(8)，所述第一X轴移动机构(5)设于第一Y轴移动机构(7)上，所述第二X轴移动机构(6)设于第二Y轴移动机构(8)上，所述基片座(3)设于第一X轴移动机构(5)上，所述掩盖板(4)设于第二X轴移动机构(6)上，基片(9)固定于基片座(3)上，所述掩盖板(4)上设有束流穿孔(41)，所述机器视觉系统(2)用于检测基片(9)上注入点的位置以及束流穿孔(41)的中心位置，所述掩盖板(4)可移动至覆盖在基片(9)的上方，以使束流穿孔(41)的中心位置与基片(9)上的注入点位置对正，所述真空腔室(1)的顶板设有离子束注入口(11)，所述控制单元与第一Y轴移动机构(7)和第二Y轴移动机构(8)、第一X轴移动机构(5)、第二X轴移动机构(6)和机器视觉系统(2)连接。
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