[发明专利]一种低扩散ArF光刻胶用高分子光敏剂PAG及其应用在审
| 申请号： | 201811187897.8 | 申请日： | 2018-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN109503752A | 公开（公告）日： | 2019-03-22 |
| 发明（设计）人： | 邓海;张妍;杨振宇 | 申请（专利权）人： | 珠海雅天科技有限公司 |
| 主分类号： | C08F220/18 | 分类号： | C08F220/18;C08F220/38;G03F7/004 |
| 代理公司： | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人： | 俞梁清 |
| 地址： | 519000 广东省珠海市横琴新*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种低扩散ArF光刻胶用高分子光敏剂PAG及其应用，所述高分子光敏剂PAG由能够光照产酸的化合物和光敏树脂单体聚合而成，所述光敏树脂单体包括含脂环烷烃的(甲基)丙烯酸酯类化合物单体、含内酯结构的(甲基)丙烯酸酯类化合物单体和/或苯乙烯类化合物单体。本发明方案将传统的单分子光敏剂连接至光刻胶的光敏树脂主体分子链上，使得光敏剂不再是小分子，而是整合成体系中高分子的一部分，从而在保证分辨率、敏感度的前提下减小光敏剂的自凝聚和酸扩散现象。本发明方案的高分子光敏剂PAG在光刻胶制备领域具有广泛的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 光敏剂 光刻胶 光敏树脂 丙烯酸酯类化合物单体 应用 苯乙烯类化合物 扩散 单体聚合 内酯结构 脂环烷烃 主体分子 传统的 单分子 敏感度 酸扩散 小分子 分辨率 产酸 减小 整合 制备 光照 凝聚 保证 | ||
【主权项】：
1.一种低扩散ArF光刻胶用高分子光敏剂PAG，其特征在于：所述高分子光敏剂PAG由能够光照产酸的化合物和光敏树脂单体聚合而成，所述光敏树脂单体包括含脂环烷烃的(甲基)丙烯酸酯类化合物单体、含内酯结构的(甲基)丙烯酸酯类化合物单体和/或苯乙烯类化合物单体。
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