[发明专利]彩膜基板及其制备方法和包含它的量子点显示装置有效

专利信息
申请号: 201811188770.8 申请日: 2018-10-12
公开(公告)号: CN109300395B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 岳阳;舒适;徐传祥;黄海涛;李翔;卢江楠;姚琪 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G09F9/00 分类号: G09F9/00;G02F1/1333;G02F1/1335
代理公司: 北京律智知识产权代理有限公司 11438 代理人: 李华;崔香丹
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 提供一种彩膜基板,包括:衬底基板;黑矩阵,形成于所述衬底基板上、包括多个开口和围设每个开口且限定多个像素区域的堤部,所述堤部包括黑色染料;彩膜层,形成于所述每个开口内,包括形成于至少部分所述开口区域的彩色量子点材料层;第一平坦化层,覆盖所述彩膜层,所述堤部露出所述第一平坦化层;第二平坦化层,覆盖所述第一平坦化层和所述堤部,所述第二平坦化层的相对于所述第一平坦化层的表面中、对应于所述堤部部分的表面距离所述衬底基板的距离小于对应于所述像素区域部分的表面距离所述衬底基板的距离;光栅层,形成于所述第二平坦化层上;第三平坦化层,覆盖所述光栅层。本发明通过形成像素区域高,黑色bank区低的平坦化层,从而可以很好的形成像素区域的纳米光栅。
搜索关键词: 彩膜基板 及其 制备 方法 包含 量子 显示装置
【主权项】:
1.一种彩膜基板,其特征在于,包括:衬底基板;黑矩阵,形成于所述衬底基板上、包括多个开口和围设每个开口且限定多个像素区域的堤部,所述堤部包括黑色染料;彩膜层,形成于所述每个开口内,包括形成于至少部分所述开口区域的彩色量子点材料层;第一平坦化层,覆盖所述彩膜层,所述堤部露出所述第一平坦化层;第二平坦化层,覆盖所述第一平坦化层和所述堤部,所述第二平坦化层的相对于所述第一平坦化层的表面中、对应于所述堤部部分的表面距离所述衬底基板的距离小于对应于所述像素区域部分的表面距离所述衬底基板的距离;光栅层,形成于所述第二平坦化层上;第三平坦化层,覆盖所述光栅层。
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