[发明专利]对校准物体两相对侧成像的视觉系统的场校准系统和方法在审
申请号: | 201811190074.0 | 申请日: | 2018-10-12 |
公开(公告)号: | CN109672878A | 公开(公告)日: | 2019-04-23 |
发明(设计)人: | A·S·沃勒克;R·A·沃尔夫;D·J·迈克尔;R·王;朱红卫 | 申请(专利权)人: | 康耐视公司 |
主分类号: | H04N17/00 | 分类号: | H04N17/00;G06T7/80;H04N13/246 |
代理公司: | 广州嘉权专利商标事务所有限公司 44205 | 代理人: | 郑勇 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明通过提供易于制造、易于分析的校准物体,其结合了可测量和可重复但不一定准确的3D特征——例如以平截头体形式的双侧校准物体/目标,其具有一对精确且可测量的特征,更特别地是由精确指定的厚度分开的平行面,以便提供多个相对面向的DS传感器的简单场校准。说明性地,可以构造复合校准物体,其包括已经喷砂和阳极氧化(以提供多个可测量的,可重复的特征)的双侧平截头体,其中突缘的上/下平行表面已经被研磨至精确指定厚度。双侧平截头体的3D角位置用于校准X和Y中的两个传感器,但是如果没有关于双侧平截头体厚度的准确信息则不能建立绝对Z;而突缘则提供绝对Z信息。 | ||
搜索关键词: | 校准 平截头体 可测量 场校准 可重复 传感器 突缘 平行表面 视觉系统 阳极氧化 准确信息 研磨 角位置 平行面 喷砂 成像 复合 制造 分析 | ||
【主权项】:
1.一种校准目标,包括:基部,所述基部限定第一侧和相对的第二侧;从第一侧突出的第一三维元件,所述第一三维元件具有第一顶部;从第二侧突出的第二三维元件,所述第二三维元件具有第二顶部;以及相对于第一侧定位的第一平面和相对于第二侧定位的第二平面,其中基于一加工程序,该加工程序使用第一顶面作为利用该加工程序形成第二顶面的基础,从而第一平面和第二平面基本平行。
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