[发明专利]一种边缘封闭式量子点增强膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811193137.8 申请日: 2018-10-14
公开(公告)号: CN111038034A 公开(公告)日: 2020-04-21
发明(设计)人: 刘勇;谢彬彬 申请(专利权)人: 南京贝迪电子有限公司
主分类号: B32B27/00 分类号: B32B27/00;B32B27/06;B32B33/00;B32B27/18
代理公司: 江苏殊成律师事务所 32265 代理人: 杨桂平
地址: 211000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种边缘封闭式量子点增强膜,该量子点增强膜具有多层结构,包括两层外层基膜、两层内层阻隔层和中间量子点层,两层内层阻隔层位于中间量子点层的外侧,两层外层基膜位于两层内层阻隔层的外侧,外层基膜的厚度为50‑125μm,内层阻隔层的厚度为0.001‑0.5μm,中间量子点层的厚度为50‑150μm;其中,量子点层由基质树脂、量子点、量子点稳定剂、散射粒子、引发剂、稀释剂组成。本发明还公开了一种边缘封闭式量子点增强膜的制备方法。此法操作简单,无需对特定区域进行费时费力的涂布,只需将整块量子点膜整块浸没即可。此外,此法可以涂布多层最小仅为20nm的超薄薄膜,而对产品的光学性能几乎不产生影响。
搜索关键词: 一种 边缘 封闭式 量子 增强 及其 制备 方法
【主权项】:
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