[发明专利]一种新型贮氢、储锂镁基合金制备方法及其应用在审

专利信息
申请号: 201811196798.6 申请日: 2018-10-15
公开(公告)号: CN109346714A 公开(公告)日: 2019-02-15
发明(设计)人: 王春花;白国梁;罗启波;夏宏宇;罗姣姣;赵杰;王钧伟;董彦杰 申请(专利权)人: 安庆师范大学
主分类号: H01M4/38 分类号: H01M4/38;H01M4/46;H01M10/0525;H01M10/30
代理公司: 合肥市浩智运专利代理事务所(普通合伙) 34124 代理人: 苏园园
地址: 246133 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明属于新能源储能研究领域,具体公开了一种新型贮氢、储锂镁基合金制备方法及其应用,包括如下步骤:(1)将铜箔、泡沫镍等集流体进行表面清洁处理;(2)采用真空磁控溅射镀膜技术,以导电性能良好的金属镁及其他金属作为靶材,通过调控真空磁控溅射镀膜工艺参数,溅射制备二元或三元镁基合金;通过本发明公开的技术方案,不仅提供了一种新型贮氢、储锂镁基合金制备方法,且工艺方法操作方便,能够精确控制镁基合金成分、厚度,不仅能够作为金属氢化物镍电池的负极贮氢材料,也可作为锂离子电池的负极储锂材料,为高性能金属氢化物镍电池和锂离子电池的设计和制备提出了一种新思路。
搜索关键词: 制备 基合金 锂镁 真空磁控溅射镀膜 锂离子电池 负极 镁基合金 金属氢化物镍电池 高性能金属 表面清洁 储锂材料 导电性能 贮氢材料 集流体 金属镁 镍电池 泡沫镍 氢化物 靶材 储能 溅射 铜箔 新能源 应用 金属 调控 研究
【主权项】:
1.一种新型贮氢、储锂镁基合金制备方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)将铜箔、泡沫镍等集流体进行表面清洁处理;(2)以金属镁及其他导电性能良好的金属作为靶材,采用真空磁控溅射镀膜技术,溅射制备镁基合金,制备过程中,控制本底真空为(0.5‑6.5)×10‑5Pa,启辉压力为0.5‑3Pa,工作气压为0.14‑0.16Pa,工作温度为200‑260℃,工作气流为Ar,50‑100sccm,溅射功率为30‑80W。
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