[发明专利]一种通过X射线衍射测量取向硅钢取向偏离角的方法有效

专利信息
申请号: 201811197573.2 申请日: 2018-10-15
公开(公告)号: CN109490346B 公开(公告)日: 2021-07-02
发明(设计)人: 李一鸣;吴忠旺;韩沛;张慧敏;王海燕;金自力;任慧平 申请(专利权)人: 内蒙古科技大学
主分类号: G01N23/207 分类号: G01N23/207
代理公司: 北京酷爱智慧知识产权代理有限公司 11514 代理人: 向霞
地址: 014010 内蒙古*** 国省代码: 内蒙古;15
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摘要: 发明属于测量晶体织构技术领域,具体涉及一种通过X射线衍射测量取向硅钢取向偏离角的方法,包括以下步骤:光管首先固定于理论衍射角度的负偏离,采用探测器扫描的方式,以出现衍射峰为标准,首先采用较大步进试探的获得大致的衍射角度;在此基础上,进一步缩小扫描范围,逐渐降低扫描步进,以最高衍射峰强为标准,最终确定衍射角度和偏离角度。本发明能够在超大晶粒取向硅钢中同时获得准确的衍射角度和取向偏离角度,本发明制样简单,对设备要求低,使用简便,准确度可达0.01°。
搜索关键词: 一种 通过 射线 衍射 测量 取向 硅钢 偏离 方法
【主权项】:
1.一种通过X射线衍射测量取向硅钢取向偏离角的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,将取向硅钢放置在样品台中心位置后,将光管角度设置为θ0‑α,探测器在θ0+α‑β至θ0+α+β的角度范围内扫描;将光管角度设置为θ0‑α+Δθ1,探测器在θ0+α+Δθ1‑β至θ0+α+Δθ1+β的角度范围内扫描;以此类推,以间隔角度Δθ1逐渐增加光管角度并进行扫描;当探测器获得的谱线中出现显著的衍射峰后,继续以间隔角度Δθ1逐渐增加光管角度进行扫描,直到衍射峰的强度出现下降的趋势,即停止扫描,并得到衍射强度最高的光管角度θm1;S2,以上一步得到的衍射强度最高的光管角度θm1为中心,将光管角度设置为θm1‑Δθ1并进行对应角度范围的扫描,依次增加光管的间隔角度Δθ2并进行对应角度范围的扫描,Δθ1>Δθ2,从而得到衍射强度最高的光管角度θm2;S3,以上一步得到的衍射强度最高的光管角度θmn为中心,n为大于等于2的正整数,将光管角度设置为θmn‑Δθn并进行对应角度范围的扫描,依次增加光管的间隔角度Δθn+1并进行对应角度范围的扫描,Δθn>Δθn+1,从而得到衍射强度最高的光管角度;S4,重复步骤S3,直至Δθn+1≤Δθr,其中Δθr为设定的偏离角分辨率,从而得到谱峰最高的光管角度θt和探测器对应的角度θd,通过2θ=(θt+θd)得到准确的衍射角2θ,通过ψ=|(θd‑θt)/2|得到取向偏离角ψ。
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