[发明专利]封装半导体元件及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811209108.6 申请日: 2018-10-17
公开(公告)号: CN110767621A 公开(公告)日: 2020-02-07
发明(设计)人: 王茂盈 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 72003 隆天知识产权代理有限公司 代理人: 黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 本公开提供一种封装半导体元件及其制备方法。该封装半导体元件包括一芯片,具有一导电垫;一第一绝缘层,设置在该芯片上;一第二绝缘层,设置在该第一绝缘层上;一导电薄膜,设置在该第二绝缘层上;一重布层,设置在该导电薄膜上;一探测垫,设置在该重布层上;以及一第三绝缘层,设置在该重布层及该第二绝缘层上。该第三绝缘层覆盖该探测垫的一部分,且该重布层和该探测垫之间的一区域中没有底切。当需要减小探测垫的尺寸以满足持续最小化芯片尺寸的要求时,探测垫的尺寸不受底切的限制。
搜索关键词: 绝缘层 重布层 探测 封装半导体元件 导电薄膜 芯片 底切 绝缘层覆盖 导电垫 最小化 减小 制备
【主权项】:
1.一种封装半导体元件,包括:/n一芯片,包括一导电垫;/n一第一绝缘层,设置在该芯片上;/n一第二绝缘层,设置在该第一绝缘层上;/n一导电薄膜,设置在该第二绝缘层上,其中该导电薄膜贯穿该第二绝缘层并接触该导电垫;/n一重布层,设置在该导电薄膜上;/n一探测垫,设置在该重布层上;以及/n一第三绝缘层,设置在该重布层及该第二绝缘层上;/n其中该第三绝缘层覆盖该探测垫的一部分,且该重布层和该探测垫之间的一区域中没有底切。/n
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