[发明专利]基于IGZO技术的多路分配器的电路结构及其制作方法在审
申请号: | 201811212303.4 | 申请日: | 2018-10-18 |
公开(公告)号: | CN109494230A | 公开(公告)日: | 2019-03-19 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 福建华佳彩有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 福州市博深专利事务所(普通合伙) 35214 | 代理人: | 林志峥 |
地址: | 351100 福*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及IGZO技术领域,特别涉及一种基于IGZO技术的多路分配器的电路结构及其制作方法,包括多路分配器的玻璃层、第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层、平坦层和第三金属层;通过结合现有技术中将第三金属层作为触控层的制程优势基础上,将第三金属层作为顶栅运用在多路分配器结构上,进而实现提高IGZO器件沟道电子迁移率,达到提升电流和缩小多路分配器宽度设计需求大小,在节约光罩减少成本的同时又满足全面屏窄边框的需求。 | ||
搜索关键词: | 多路分配器 绝缘层 金属层 电路结构 第二金属层 第一金属层 电子迁移率 半导体层 宽度设计 器件沟道 玻璃层 触控层 平坦层 窄边框 顶栅 光罩 制程 制作 节约 | ||
【主权项】:
1.一种基于IGZO技术的多路分配器的电路结构,包括多路分配器的玻璃层、第一金属层、第一绝缘层、半导体层、第二绝缘层、第二金属层、第三绝缘层和平坦层;所述第一金属层、第一绝缘层、半导体层和第二绝缘层依次设置在玻璃层表面,所述第二绝缘层上设有至少两个的第一过孔,所述第二金属层填充于所述第一过孔中且与半导体层接触,所述第三绝缘层一侧面与第二金属层表面和第二绝缘层表面接触,所述第三绝缘层另一侧面与平坦层接触,其特征在于,还包括第三金属层,所述平坦层上设有至少一个的第二过孔,所述第三金属层分别与所述第三绝缘层另一侧面、第二过孔的孔壁表面和平坦层表面接触。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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