[发明专利]采用激光干涉光刻技术制作无调制阵列结构的方法及系统在审
| 申请号： | 201811215327.5 | 申请日： | 2018-10-18 |
| 公开（公告）号： | CN111077734A | 公开（公告）日： | 2020-04-28 |
| 发明（设计）人： | 徐佳;张红鑫;王泰升;许文斌;蔺春波;王鹤;刘建卓;许家林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 曹卫良 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种采用激光干涉光刻技术制作无调制阵列结构的系统及相应的方法。该系统利用激光作为发光光源，通过整形、准直、分束形成三束相干光束，这三束相干光束在基片平面汇聚、干涉，使得光强在干涉场内重新分布，从而很容易获得大小一致、分布均匀的周期性结构，在制作过程中无调制出现，这种周期性图形结构可广泛应用于功能性表面及器件等领域。 | ||
| 搜索关键词： | 采用 激光 干涉 光刻 技术 制作 调制 阵列 结构 方法 系统 | ||
【主权项】：
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