[发明专利]一种双周期结构制备系统及方法在审

专利信息
申请号: 201811215346.8 申请日: 2018-10-18
公开(公告)号: CN111077735A 公开(公告)日: 2020-04-28
发明(设计)人: 徐佳;张红鑫;王泰升;许文斌;蔺春波;刘建卓;王鹤;许家林 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 曹卫良
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
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摘要: 发明提供的双周期结构制备系统及方法,利用激光经过扩束整形以及调控后得到的六束相干光,在样品表面汇聚形成干涉场,使得激光光强在干涉场内重新分布,材料表面形成具有周期性双周期结构图形,在进行光刻时,可以无需掩模而直接或者间接在材料上进行干涉曝光,通过调整想干光束的空间角和入射角,形成具有六边形、双周期分布的仿生双周期结构。
搜索关键词: 一种 双周 结构 制备 系统 方法
【主权项】:
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