[发明专利]二醇基的保护方法及脱保护方法在审
| 申请号： | 201811220387.6 | 申请日： | 2015-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN109369601A | 公开（公告）日： | 2019-02-22 |
| 发明（设计）人： | 中村刚希;长濑久人;藤野雄太;渡边克之;胜又泰司 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C07D317/30 | 分类号： | C07D317/30;C07D333/32;C07D319/06;C07D333/46;C07D409/06;C07D493/04;C07D497/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周欣 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明的课题在于提供一种在桫拉希醇的制造中有用的新型化合物及它们的制造方法、桫拉希醇的制造方法、二醇基的保护方法及脱保护方法、以及二醇基的保护剂。以通式(1)表示的化合物是在桫拉希醇的制造中有用的化合物。式中，R1a及R1b为氢原子或羧基保护基；R2为羟基等，R3为羟基等。 |
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| 搜索关键词： | 二醇基 脱保护 制造 羟基 新型化合物 羧基保护基 保护剂 氢原子 式中 | ||
【主权项】：
1.一种1,2‑二醇基或1,3‑二醇基的保护方法，其特征在于，使1,2‑二醇基或1,3‑二醇基在碱的存在下与以通式(19)表示的基团进行反应，![]()
式中，R1a及R1b相同或不同，是氢原子或羧基保护基：*为键合位置。
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