[发明专利]一种制备高透光率氧化镓薄膜的方法

摘要

本发明公开了一种制备高透光率氧化镓薄膜的方法，涉及一种优化工艺制备高透光率氧化镓薄膜的方法。本发明通过优化制备工艺，明显提高了氧化镓薄膜的光学性质，克服了透光率低的技术问题。本发明通过引入低温缓冲层的方法得到了高透光率的氧化镓薄膜，透光率高达90％以上。

主权项

1.一种制备高透光率氧化镓薄膜的方法，其特征在于所述方法步骤如下：步骤一、清洗衬底；步骤二、制备缓冲层，制备方法包括：磁控溅射沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、等离子体增强的化学气相沉积、光辅助或等离子体辅助的有机金属化学气相沉积、电子束蒸发等方法来实现。其中脉冲激光沉积制备缓冲层的具体步骤如下：(1)、把氧化镓靶材安装在脉冲激光沉积靶上，然后把步骤一清洗好的衬底放置于真空室的控制台上，开始抽真空至一定真空度，并加热衬底至一定温度，通入溅射气体，使得真空室的压力保持在一定压强。(2)、用挡板遮住衬底，在一定功率的脉冲激光条件下进行预沉积一定时间，打开衬底挡板，在一定功率的脉冲激光条件下进行正式沉积一定时间，得到一定厚度的氧化镓薄膜缓冲层；步骤三、制备氧化镓薄膜的方法包括：磁控溅射沉积、脉冲激光沉积、分子束外延、等离子体增强的化学气相沉积、光辅助或等离子体辅助的有机金属化学气相沉积，电子束蒸发等方法来实现。其中脉冲激光沉积氧化镓薄膜的具体步骤如下：(1)、用挡板遮住衬底，将步骤二得到的氧化镓薄膜缓冲层加热至一定温度，加热过程中，一直保持溅射气体的通入，使得真空室的压力保持在一定压强。(2)、打开衬底挡板，在一定功率的脉冲激光条件下进行沉积一定时间，得到一定厚度高透光率的氧化镓薄膜。