[发明专利]玻璃再生处理方法、再生玻璃基板及使用其的光掩模坯料和光掩模有效

专利信息
申请号: 201811229615.6 申请日: 2013-09-19
公开(公告)号: CN109298594B 公开(公告)日: 2021-12-24
发明(设计)人: 木下一树;二岛悟;青木阳祐;板仓敬二郎 申请(专利权)人: 大日本印刷株式会社
主分类号: G03F1/60 分类号: G03F1/60;B09B5/00;C03C15/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 蒋亭
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及为了将在各种平板的生产中使用完的光掩模或在光掩模制造工序中成为不良的光掩模作为新型光掩模用玻璃基板再利用而进行再生处理的方法、利用该再生处理方法所再生的光掩模用玻璃基板、以及使用该光掩模用玻璃基板的光掩模用坯料及光掩模。通过对再生玻璃基板的表面未进行以往的物理性研磨处理而进行使润湿性均匀化直至在呼气像检查中不出现原本图案痕迹的处理,能够以低成本获得缺陷少的再生玻璃基板。
搜索关键词: 玻璃 再生 处理 方法 使用 光掩模 坯料
【主权项】:
1.一种光掩模用玻璃基板,其是对在玻璃基板的至少一面以金属薄膜形成图案而成的光掩模进行再生处理后的玻璃基板,其特征在于,在所述玻璃基板上,作为光掩模所形成的金属薄膜被蚀刻液溶解去除,并对该玻璃基板进行湿式润湿性均匀化处理直至在呼气像检查中不出现所述图案。
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