[发明专利]氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结忆阻器的制备方法有效

专利信息
申请号: 201811230289.0 申请日: 2018-10-22
公开(公告)号: CN109585647B 公开(公告)日: 2022-10-14
发明(设计)人: 李颖 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00;B82Y30/00
代理公司: 西安弘理专利事务所 61214 代理人: 王蕊转
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结忆阻器的制备方法,具体包括如下步骤:步骤1,制备氧化镍凝胶薄膜;步骤2,在步骤1制备的氧化镍凝胶薄膜上制备氧化钛凝胶膜,得氧化钛/氧化镍基片;步骤3,在步骤2所得氧化钛/氧化镍基片上陈化氧化镍凝胶薄膜,得氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结薄膜;步骤4,使用溅射仪对步骤3所得的氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结薄膜进行顶电极制备,即得。使用本发明的制备方法可以在ITO底电极上一次性制得氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结薄膜,制备成本低、工艺简单、容易控制,提高了氧化镍/氧化钛/氧化镍多层异质结的制备效率。
搜索关键词: 氧化 多层 异质结忆阻器 制备 方法
【主权项】:
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