[发明专利]化学水浴镀膜装置在审
申请号: | 201811231485.X | 申请日: | 2018-10-22 |
公开(公告)号: | CN109161875A | 公开(公告)日: | 2019-01-08 |
发明(设计)人: | 惠述伟;张升飞;朱海安 | 申请(专利权)人: | 华夏易能(广东)新能源科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/16 | 分类号: | C23C18/16;H01L31/18 |
代理公司: | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人: | 毛宏宝 |
地址: | 517000 广东省河源市高新技术产业*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明是关于一种化学水浴镀膜装置。该装置包括:反应槽,包括固定结构,固定结构用于固定放置于反应槽内的待镀膜衬板;馈入单元,设置在反应槽的槽内,与放置于反应槽内的待镀膜衬板平行,馈入单元内部中空,用于缓存加热后的反应液;馈入单元的第一侧面有喷射口,第一侧面为朝向待镀膜衬板的面,其中,第一侧面在待镀膜衬板的待镀膜面上的正投影的面积至少占待镀膜面面积的预设比值;加热器,位于反应槽外,通过导管与馈入单元连通,使加热后的反应液注入馈入单元。该技术方案可以提升反应槽内反应液的浓度和温度的均匀性,避免由于反应槽的底部与上部的反应液的浓度、温度相差较大,所造成的在待镀膜衬板上沉积的薄膜的厚度不均匀的问题。 | ||
搜索关键词: | 反应槽 镀膜 馈入单元 衬板 镀膜装置 固定结构 化学水 侧面 加热 加热器 缓存 固定放置 内部中空 不均匀 镀膜面 均匀性 喷射口 正投影 沉积 导管 预设 薄膜 连通 平行 | ||
【主权项】:
1.一种化学水浴镀膜装置,其特征在于,包括:反应槽,包括固定结构,所述固定结构用于固定放置于所述反应槽内的待镀膜衬板;馈入单元,设置在所述反应槽的槽内,与放置于所述反应槽内的所述待镀膜衬板平行,所述馈入单元内部中空,用于缓存加热后的反应液;所述馈入单元的第一侧面有喷射口,所述第一侧面为朝向所述待镀膜衬板的面,其中,所述第一侧面在所述待镀膜衬板的待镀膜面上的正投影的面积至少占所述待镀膜面面积的预设比值;加热器,位于所述反应槽外部,通过导管与所述馈入单元连通,使加热后的反应液注入所述馈入单元。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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