[发明专利]一种阵列基板、显示装置及阵列基板的制备方法在审

专利信息
申请号: 201811233017.6 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109411484A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 孙立志;徐向阳 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 代理人: 潘中毅;熊贤卿
地址: 518000 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提供一种阵列基板,包括基板、遮光层以及薄膜晶体管;其中,遮光层上形成有一开口向上的凹槽,且该薄膜晶体管位于凹槽内。实施本发明,通过遮光层上的凹槽设计,能够完全避免光线进入多晶硅层,从而消除光对多晶硅层的影响。
搜索关键词: 阵列基板 遮光层 薄膜晶体管 多晶硅层 开口向上 显示装置 基板 制备
【主权项】:
1.一种阵列基板,包括基板(1)、遮光层(2)以及薄膜晶体管;其特征在于,所述遮光层(2)上形成有一开口向上的凹槽(21),且所述薄膜晶体管位于所述凹槽(21)内。
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