[发明专利]一种电子级多晶硅还原炉底盘及还原炉在审

专利信息
申请号: 201811234470.9 申请日: 2018-10-23
公开(公告)号: CN109133066A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 何银凤;刘铭;李有斌;梁世民;韩金豆;张胜涛 申请(专利权)人: 青海黄河上游水电开发有限责任公司光伏产业技术分公司;黄河水电光伏产业技术有限公司;国家电投集团黄河上游水电开发有限责任公司;青海黄河上游水电开发有限责任公司
主分类号: C01B33/035 分类号: C01B33/035
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;贾珍珠
地址: 810007 青海省西*** 国省代码: 青海;63
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摘要: 发明公开了电子级多晶硅还原炉底盘,包括底盘、由若干电极形成的电极环、由若干进气口形成的进气环及由若干出气口形成的出气环,底盘为圆盘结构,形成的电极环、进气环和出气环均是以底盘的中心为圆心的同心圆,电极环至少包括由内至外依次设置的第一电极环和第二电极环,进气环至少包括设于第一电极环和第二电极环之间的第一进气环,第一进气环上的若干进气口的口径不完全相等。本发明的还原炉底盘通过在底盘上间隔布置不同口径的进气口,使得反应气体进入炉内的流速不一致,改变现有技术中的均匀的气流分布,形成高低搭配的气流,有效减少了炉体上部的气体停滞区,从而减少了菜花料形成几率,提高了多晶硅产品质量产量,减少了单位能耗。
搜索关键词: 进气环 底盘 进气口 还原炉底盘 电极环 电子级多晶硅 第二电极 第一电极 出气环 口径 同心圆 多晶硅产品 圆心 单位能耗 电极形成 反应气体 间隔布置 炉体上部 气流分布 依次设置 有效减少 圆盘结构 不一致 出气口 还原炉 停滞区 炉内 相等 搭配
【主权项】:
1.一种电子级多晶硅还原炉底盘,其特征在于,包括底盘、由若干电极形成的电极环、由若干进气口形成的进气环及由若干出气口形成的出气环,所述底盘为圆盘结构,所述电极、进气口及出气口均设于所述底盘上,形成的所述电极环、进气环和所述出气环均是以底盘的中心为圆心的同心圆,所述电极环至少包括由内至外依次设置的第一电极环和第二电极环,所述进气环至少包括设于所述第一电极环和所述第二电极环之间的第一进气环,所述第一进气环上的若干进气口的口径不完全相等。
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