[发明专利]一种磷化铟晶圆片及其外延晶圆片的衬底抛光模具在审

专利信息
申请号: 201811240107.8 申请日: 2018-10-24
公开(公告)号: CN109397070A 公开(公告)日: 2019-03-01
发明(设计)人: 于一榛;孙夺;曹高奇;邓双燕;杨波;邵秀梅;李雪;龚海梅 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: B24B37/30 分类号: B24B37/30
代理公司: 上海沪慧律师事务所 31311 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种用于磷化铟晶圆片及其外延晶圆片抛光模具,其结构包括陶瓷沟道、陶瓷基板、配重块。在抛光垫和陶瓷基板之间起支撑作用的陶瓷沟道。通过在陶瓷基板上增加陶瓷沟道,应用本发明所述的抛光模具可以降低抛光模具的复杂程度,使抛光过程中模具自转稳定,同时加快抛光速率,以获得高平整度的衬底,并降低工艺成本。
搜索关键词: 晶圆片 抛光模具 陶瓷基板 沟道 陶瓷 磷化铟 模具 衬底抛光 高平整度 工艺成本 抛光过程 支撑作用 自转稳定 抛光垫 配重块 抛光 衬底 应用
【主权项】:
1.一种磷化铟晶圆片及其外延晶圆片的衬底抛光模具,包括陶瓷基板(1)、陶瓷沟道(1‑1)、配重块(2),其特征在于:待抛光的样品黏贴在陶瓷基板(1)中央,陶瓷基板(1)上有2~6组陶瓷沟道(1‑1),均布于样品四周;每组陶瓷沟道(1‑1)由3‑10条凸起结构组成;在抛光时,模具倒扣在抛光垫上,配重块(2)置于陶瓷基板(1)上。
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