[发明专利]同时获取光响应图像和反射率图像的方法、装置、系统及存储介质有效

专利信息
申请号: 201811246608.7 申请日: 2018-10-25
公开(公告)号: CN109269777B 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 张子邦;钟金钢;姚曼虹 申请(专利权)人: 暨南大学
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 代理人: 陈燕娴
地址: 510632 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种同时获取光响应图像和反射率图像的方法、装置、系统及存储介质。其包括,生成一系列哈达玛基底图案,将哈达玛基底图案转化为结构光场,结构光场被投影至待测光电器件,待测光电器件表面的反射光被传送至光电探测器,信号采集器同时采集待测光电器件及光电探测器的电信号,根据结构光场与电信号的关联性计算重建待测光电器件的光响应图像及反射率图像。本发明的方法、装置及系统能够同时采集光响应图像及反射率图像,并且两种图像的视场相同,便于图像融合,实现对光电器件的快速质量筛查和缺陷检测,并且装置简单、易实现。
搜索关键词: 同时 获取 响应 图像 反射率 方法 装置 系统 存储 介质
【主权项】:
1.同时获取光响应图像和反射率图像的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、产生一系列不同频率的哈达玛基底图案对,将该哈达玛基底图案转化为结构光场;S2、将结构光场投影至待测光电器件,并将所述待测光电器件的反射光传送至光电探测器件,分别采集并记录待测光电器件以及光电探测器在所述结构光场照明下产生的电信号;S3、根据所述结构光场与相应所述电信号的关联性,计算重建所述待测器件的光响应图像以及反射率图像。
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