[发明专利]磁场漂移的控制方法、装置和存储介质有效
申请号: | 201811252772.9 | 申请日: | 2018-10-25 |
公开(公告)号: | CN109407022B | 公开(公告)日: | 2020-10-09 |
发明(设计)人: | 杨绩文;谭国陞;马林;娄昕 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | G01R33/389 | 分类号: | G01R33/389 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种磁场漂移的控制方法、装置和存储介质。该方法包括:获取预设位置,以及预设位置对应的至少两个匀场片厚度;根据预设位置以及匀场片厚度确定第一匀场片厚度组;基于预设均匀约束函数,计算第一匀场片厚度组对应的均匀约束值,并根据均匀约束值和预设均匀上限值,从第一匀场片厚度组中确定第二匀场片厚度组;基于预设匀场片磁场函数,计算第二匀场片厚度组对应的匀场片平均磁场强度,并根据预设匀场条件和匀场片平均磁场强度,确定目标匀场片厚度组;根据目标匀场片厚度组配置相应预设位置处的匀场片。通过本发明实施例的技术方案,可以降低因匀场片升温而导致的场漂,并保证主磁场的均匀性,提升成像质量。 | ||
搜索关键词: | 磁场 漂移 控制 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】:
1.一种磁场漂移的控制方法,其特征在于,包括:获取预设位置,以及所述预设位置对应的至少两个匀场片厚度;根据所述预设位置以及所述匀场片厚度确定第一匀场片厚度组;基于预设均匀约束函数,计算所述第一匀场片厚度组对应的均匀约束值,并根据所述均匀约束值和预设均匀上限值,从所述第一匀场片厚度组中确定第二匀场片厚度组;基于预设匀场片磁场函数,计算所述第二匀场片厚度组对应的匀场片平均磁场强度,并根据预设匀场条件和所述匀场片平均磁场强度,确定目标匀场片厚度组;根据所述目标匀场片厚度组配置相应预设位置处的匀场片。
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