[发明专利]一种多谷透射元件及其制备方法有效
| 申请号： | 201811254504.0 | 申请日： | 2018-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN109270616B | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | 杨陈楹;沈伟东 | 申请（专利权）人： | 杭州灯之塔科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 高燕 |
| 地址： | 310007 浙江省杭州市滨江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种多谷透射元件，包括基底，所述基底上沉积有具有若干个选择透射衰减带特性的介质层；所述的介质层由依次沉积在基底上的高折射率材料层和低折射率材料层两层薄膜组成；基底与低折射率材料之间的折射率差值小于或等于0.2。本发明的多谷透射元件的基底上仅具有两层介质层，即可具有多个选择透射衰减带，其结构简单，适于大面积批量化地生产，从而使得多谷透射元件成本大大降低，可应用于更多的民用场合。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 透射 元件 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种多谷透射元件，其特征在于，包括基底，所述基底上沉积有具有若干个选择透射衰减带特性的介质层；所述的介质层由依次沉积在基底上的高折射率材料层和低折射率材料层两层薄膜组成；基底与低折射率材料之间的折射率差值小于或等于0.2。
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