[发明专利]一种可与太阳能基片稳定粘结的涤纶基底面料整理工艺

摘要

本发明公开了一种可与太阳能基片稳定粘结的涤纶基底面料整理工艺，包括以下步骤：退浆预处理；布面凹凸化处理,可以增加布面的接触比表面积，使后续涂层以及粘合工艺能够有更加好的剥离牢度；烘干定型；涂层整理。可以使得现有涤纶面料能过作为太阳能基片的柔性基底使用。通过该发明的整理技术可以使用现有的太阳能基片封装机器，无需改进现有封装技术参数，可以直接产业化使用该面料。

主权项

1.一种可与太阳能基片稳定粘结的涤纶基底面料整理工艺，其特征在于：包括以下步骤：（1）退浆预处理：进布后退浆，退浆温度90‑95℃，退浆时间0.5‑1h，再皂洗，皂洗温度85‑95℃，皂洗时间0.5‑1h，皂洗后采用热水洗，热水洗温度90‑100℃，热水洗时间0.5‑1h，最后冷水洗；（2）布面凹凸化处理：进布后金属丝网压合，金属丝网采用200‑300目，再刷硅烷偶联剂，控制温度25‑35℃，涂刷0.5‑1h，最后皂洗，皂洗温度85‑95℃，皂洗时间0.5‑1h；（3）烘干定型：进布后，采用防水助剂喷雾，再对织物进行压点式压烫防缩烘干，拉幅定型温度：155‑165℃，控制拉幅速度：36‑40 m/min，冷却、最后打卷出布；（4）涂层整理：进布后，使用浆点法涂层，烘干、冷却再打卷。