[发明专利]有机阻隔膜、有机阻隔膜的制备方法以及量子点器件有效
| 申请号： | 201811267839.6 | 申请日： | 2018-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN109638169B | 公开（公告）日： | 2021-02-23 |
| 发明（设计）人： | 王海琳;胡奇乐;康永印;叶佳敏 | 申请（专利权）人： | 纳晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/50 | 分类号： | H01L51/50;H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 广州市越秀区哲力专利商标事务所(普通合伙) 44288 | 代理人： | 胡拥军;糜婧 |
| 地址： | 310052 浙江省杭*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了有机阻隔膜、有机阻隔膜的制备方法以及量子点器件。其中，有机阻隔膜包括由外到内依次设置基材层、粘结层以及阻氧层，阻氧层包括聚乙烯醇，粘结层与阻氧层之间形成化学交联。本发明的有益效果在于：粘结层与阻氧层之间形成化学交联，提高了阻氧层在基材层表面的附着力。 | ||
| 搜索关键词： | 有机 阻隔 制备 方法 以及 量子 器件 | ||
【主权项】：
1.一种有机阻隔膜，其特征在于，包括由外到内依次设置的基材层、粘结层以及阻氧层，所述阻氧层包括聚乙烯醇，所述粘结层与所述阻氧层之间形成化学交联。
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H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
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H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
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