[发明专利]一种后畸变CMOS低噪声放大器在审
申请号: | 201811268081.8 | 申请日: | 2018-10-29 |
公开(公告)号: | CN109546969A | 公开(公告)日: | 2019-03-29 |
发明(设计)人: | 郭本青;陈鸿鹏;王雪冰;陈俊 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | H03F1/26 | 分类号: | H03F1/26;H03F3/195;H03F3/45 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 甘茂 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于集成电路领域,具体提供一种后畸变CMOS低噪声放大器,包括:输入级(ML1与MR1)、级联级(ML2与MR2)、后畸变消除级(M1aL与M1aR)及谐振负载,射频差分信号分别从输入级输入,经放大后的差分输出信号分别从级联级输出,畸变消除级即为工作在强反型区的NMOS晶体管,连接在级联级。本发明后畸变CMOS低噪声放大器能够显著提高LNA的线性度,并同时获得较高的增益,以及较低的噪声性能。 | ||
搜索关键词: | 低噪声放大器 级联级 畸变 畸变消除 输入级 差分输出信号 集成电路领域 差分信号 强反型区 谐振负载 噪声性能 线性度 射频 放大 输出 | ||
【主权项】:
1.一种后畸变CMOS低噪声放大器,包括:输入级(ML1与MR1)、级联级(ML2与MR2)、后畸变消除级(M1aL与M1aR)及谐振负载,其特征在于,所述级联级包括:NMOS管ML2与NMOS管MR2,所述NMOS管ML2与MR2的栅极均连接到电源VDD,NMOS管ML2与MR2的漏极分别通过谐振电路连接到电源VDD;所述输入级包括:NMOS管ML1与NMOS管MR1、电容CcL与电容CcR、电感Ls,其中,所述NMOS管ML1的漏极连接NMOS管ML2的源极、源极作为输入信号的正端+Vin、栅极经偏置电阻接偏置电压VBais,NMOS管MR1的漏极接NMOS管MR2的源极、源极作为输入信号的负端‑Vin、栅极经偏置电阻接偏置电压VBais,电容CcL连接于NMOS管ML1的源极与NMOS管MR1的栅极之间,电容CcR连接于NMOS管ML1的栅极与NMOS管MR1的源极之间;NMOS管ML1和NMOS管MR1的源极均通过电感Ls后接地;所述后畸变消除级包括:NMOS管M1aL与NMOS管M1aR、栅极隔直电容及栅极偏置电阻,其中,所述NMOS管M1aL的源级连接到NMOS管ML2的源极、NMOS管M1aR的源级连接到NMOS管MR2的源极,所述NMOS管M1aL与M1aR的栅极分别通过栅极偏置电阻连接到偏置电压Vb,NMOS管M1aL与M1aR的漏极相连、且接到电源VDD,所述NMOS管M1aL的源级通过栅极隔直电容连接到M1aR的漏级、所述NMOS管M1aR的源级通过栅极隔直电容连接到M1aL的漏级。
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