[发明专利]一种石墨烯和磷共掺杂氧化锡透明导电薄膜的制备方法在审
申请号: | 201811273409.5 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109524171A | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 王少杰;刘炳光;李建生;张发荣 | 申请(专利权)人: | 天津市职业大学 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00;H01B5/14;H01B1/04;H01B1/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300410*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | 本发明涉及一种石墨烯和磷共掺杂氧化锡透明导电薄膜的制备方法,其特征在于石墨烯和磷共掺杂氧化锡透明导电薄膜的化学组成为:SnO2+zPxCy,其中,x=0.1‑0.5,y=0.2‑1,z=0.02y‑0.1y,制备过程包括氧化石墨烯的原位还原、磷掺杂还原、杂化薄膜涂布和杂化薄膜后处理四部分,形成透明导电薄膜玻璃的膜层厚度为500‑1200nm,可见光透光率为82%‑87%,方块电阻为10‑20Ω/□。本发明采用氯化亚锡作为氧化石墨烯的化学还原剂和透明导电薄膜的主要组分,减少了化学还原剂的消耗。本发明采用次磷酸或亚磷酸作为氧化石墨烯的还原剂和薄膜掺杂剂,提高了掺杂氧化锡透明导电薄膜的导电性。 | ||
搜索关键词: | 透明导电薄膜 氧化石墨烯 共掺杂 石墨烯 氧化锡 化学还原剂 杂化 制备 透明导电薄膜玻璃 导电性 掺杂氧化锡 后处理 可见光 薄膜掺杂 薄膜涂布 方块电阻 化学组成 氯化亚锡 原位还原 制备过程 次磷酸 还原剂 磷掺杂 透光率 亚磷酸 膜层 薄膜 还原 消耗 | ||
【主权项】:
1.本发明涉及一种石墨烯和磷共掺杂氧化锡透明导电薄膜的制备方法,其特征在于石墨烯和磷共掺杂氧化锡透明导电薄膜的化学组成为:SnO2+zPxCy ,其中,x=0.1‑0.2,y=0.2‑1,z=0.02y‑0.1y,采用次磷酸或亚磷酸作为氧化石墨烯的还原剂和透明导电薄膜的掺杂剂,制备过程包括氧化石墨烯的原位还原、磷掺杂还原、杂化薄膜涂布和杂化薄膜后处理四部分。
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