[发明专利]一种LED芯片的制备方法及LED芯片在审

专利信息
申请号: 201811274077.2 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN109216521A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 邹微微;徐洲;李波;杭伟;赵鹏 申请(专利权)人: 扬州乾照光电有限公司
主分类号: H01L33/22 分类号: H01L33/22;H01L33/00
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 梁香美
地址: 225000 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本申请提供了一种LED芯片的制备方法及LED芯片,以简化LED芯片的制备流程,提高芯片的出光率。这种LED芯片制备方法包括:在衬底上形成反射层;在反射层上形成外延层,外延层包括依次形成于反射层上的N型层、发光层和P型层;在P型层上形成窗口层;在窗口层上形成金属薄膜层,金属薄膜呈颗粒状,相邻颗粒之间存在间隙;透过金属薄膜层的间隙蚀刻窗口层后,去除金属薄膜层,使得窗口层上表面形成粗化深度小于设定值的粗化面;在窗口层上形成导电增透膜;在导电增透膜上形成P型电极层,在衬底背面形成N型电极层。
搜索关键词: 窗口层 制备 金属薄膜层 反射层 外延层 增透膜 导电 蚀刻 衬底背面 金属薄膜 相邻颗粒 出光率 粗化面 发光层 颗粒状 上表面 衬底 粗化 去除 芯片 申请
【主权项】:
1.一种LED芯片的制备方法,其特征在于,包括:在衬底上形成反射层;在所述反射层上形成外延层,所述外延层包括依次形成于所述反射层上的N型层、发光层和P型层;在所述P型层上形成窗口层;在所述窗口层上形成金属薄膜层,所述金属薄膜呈颗粒状,相邻颗粒之间存在间隙;透过所述金属薄膜层的所述间隙蚀刻所述窗口层后,去除所述金属薄膜层,使得所述窗口层上表面形成粗化深度小于设定值的粗化面;在所述窗口层上形成导电增透膜;在所述导电增透膜上形成P型电极层,在所述衬底背面形成N型电极层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于扬州乾照光电有限公司,未经扬州乾照光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811274077.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top