[发明专利]一种LED芯片的制备方法及LED芯片在审
申请号: | 201811274077.2 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109216521A | 公开(公告)日: | 2019-01-15 |
发明(设计)人: | 邹微微;徐洲;李波;杭伟;赵鹏 | 申请(专利权)人: | 扬州乾照光电有限公司 |
主分类号: | H01L33/22 | 分类号: | H01L33/22;H01L33/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 梁香美 |
地址: | 225000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本申请提供了一种LED芯片的制备方法及LED芯片,以简化LED芯片的制备流程,提高芯片的出光率。这种LED芯片制备方法包括:在衬底上形成反射层;在反射层上形成外延层,外延层包括依次形成于反射层上的N型层、发光层和P型层;在P型层上形成窗口层;在窗口层上形成金属薄膜层,金属薄膜呈颗粒状,相邻颗粒之间存在间隙;透过金属薄膜层的间隙蚀刻窗口层后,去除金属薄膜层,使得窗口层上表面形成粗化深度小于设定值的粗化面;在窗口层上形成导电增透膜;在导电增透膜上形成P型电极层,在衬底背面形成N型电极层。 | ||
搜索关键词: | 窗口层 制备 金属薄膜层 反射层 外延层 增透膜 导电 蚀刻 衬底背面 金属薄膜 相邻颗粒 出光率 粗化面 发光层 颗粒状 上表面 衬底 粗化 去除 芯片 申请 | ||
【主权项】:
1.一种LED芯片的制备方法,其特征在于,包括:在衬底上形成反射层;在所述反射层上形成外延层,所述外延层包括依次形成于所述反射层上的N型层、发光层和P型层;在所述P型层上形成窗口层;在所述窗口层上形成金属薄膜层,所述金属薄膜呈颗粒状,相邻颗粒之间存在间隙;透过所述金属薄膜层的所述间隙蚀刻所述窗口层后,去除所述金属薄膜层,使得所述窗口层上表面形成粗化深度小于设定值的粗化面;在所述窗口层上形成导电增透膜;在所述导电增透膜上形成P型电极层,在所述衬底背面形成N型电极层。
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