[发明专利]陪栅浮空型沟槽栅IGBT芯片在审

专利信息
申请号: 201811274977.7 申请日: 2018-10-30
公开(公告)号: CN111129129A 公开(公告)日: 2020-05-08
发明(设计)人: 宁旭斌;朱春林;戴小平;罗海辉;刘国友;伊恩·迪瓦尼 申请(专利权)人: 株洲中车时代电气股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/423;H01L29/06
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;何娇
地址: 412001 湖*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明提出了一种解决了沟槽栅IGBT在低感应用环境下栅阻对开通di/dt控制有限的问题的陪栅浮空型沟槽栅IGBT芯片,包括若干个相互并联的元胞,每个所述元胞包括依次排列的第一沟槽真栅、第二沟槽真栅及一个或多个沟槽陪栅,各沟槽真栅与栅极区相连,其特征在于,所述沟槽陪栅浮空设置,本发明的陪栅浮空型沟槽栅IGBT芯片解决了沟槽栅IGBT在低感应用环境下栅阻对开通di/dt控制有限的问题,实现了栅极电阻对IGBT开通速度(di/dt)的有效的调控,并优化了开通速度di/dt和开通损耗两者间的权衡关系。在不增加di/dt的情况下开通损耗也能得到有效的控制。
搜索关键词: 陪栅浮空型 沟槽 igbt 芯片
【主权项】:
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