[发明专利]一种场聚焦效应的电推进装置有效
申请号: | 201811280396.4 | 申请日: | 2018-10-30 |
公开(公告)号: | CN109204888B | 公开(公告)日: | 2020-03-17 |
发明(设计)人: | 高辉;罗杨;许诺;魏厚震 | 申请(专利权)人: | 北京机械设备研究所 |
主分类号: | F03H1/00 | 分类号: | F03H1/00;B64G1/40 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人: | 李明里;庞许倩 |
地址: | 100854 北京市海淀区永*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种场聚焦效应的电推进装置,属于卫星推进领域,解决了现有技术中推进效率低的问题。包括:栅极、第一支撑、场聚焦极、第二支撑、发射极、基底;发射极上设有发射锥,场聚焦极设置在发射锥的尖端,且不与发射锥的尖端接触;栅极设置在发射锥尖端方向,且栅极与发射锥之间留有距离;栅极通过第一支撑与基底连接,场聚焦极通过第二支撑与基底连接;场聚焦极和栅极对应发射锥的位置均设有形状和尺寸相同的通孔;栅极与发射极之间设有电位差,发射极和场聚焦极之间无电位差;发射极为多孔材料,孔中填充推进剂。本发明通过场聚焦极能够有效降低羽流发散程度,减小羽流发散带来的推力损失。 | ||
搜索关键词: | 一种 聚焦 效应 推进 装置 | ||
【主权项】:
1.一种场聚焦效应的电推进装置,其特征在于,所述电推进装置包括:栅极(1)、第一支撑(2)、场聚焦极(4)、第二支撑(3)、发射极(5)、基底(8);所述发射极(5)上设有发射锥,所述场聚焦极(4)设置在所述发射锥的尖端,且不与所述发射锥的尖端接触;所述栅极(1)设置在所述发射锥尖端方向,且所述栅极(1)与发射锥之间留有间隙;所述栅极(1)通过所述第一支撑(2)与所述基底(8)连接,所述场聚焦极(4)通过所述第二支撑(3)与所述基底(8)连接;所述场聚焦极(4)和栅极(1)对应所述发射锥的位置均设有形状和尺寸相同的通孔;所述栅极(1)与发射极(5)之间设有电位差,所述发射极(5)和场聚焦极(4)之间无电位差;所述发射极(5)为多孔材料,孔中填充推进剂。
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