[发明专利]一种耐久性良好的聚乙烯醇系膜及其制备方法有效
申请号: | 201811291000.6 | 申请日: | 2018-10-31 |
公开(公告)号: | CN109438734B | 公开(公告)日: | 2021-08-27 |
发明(设计)人: | 吕惠霞;黎园;吴辉江;陆春因 | 申请(专利权)人: | 中国石油化工股份有限公司;中国石化集团重庆川维化工有限公司;重庆川维科技有限公司 |
主分类号: | C08J5/18 | 分类号: | C08J5/18;C08L29/04;C08L1/28;C08L71/02;C08K5/07 |
代理公司: | 重庆强大凯创专利代理事务所(普通合伙) 50217 | 代理人: | 王典彪 |
地址: | 100728 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明申请属于聚乙烯醇系光学膜技术领域,具体公开了一种耐久性良好的聚乙烯醇系膜及其制备方法,一种耐久性良好的聚乙烯醇系膜的制备原料包含聚乙烯醇系聚合物和增塑剂组合物,聚乙烯醇系聚合物分子结构中的等规立构含量(I)与间规立构含量(S)的比值I/S为1.5<I/S≤2.0。利用该聚乙烯系聚合物制备的聚乙烯醇系膜具有以下优点:1、薄膜晶点少,光学性能优异;2、染色性、延展性均匀,色斑少;3、拉伸性能优异,不易断膜;4、产品耐久性优异。 | ||
搜索关键词: | 一种 耐久性 良好 聚乙烯醇 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种耐久性良好的聚乙烯醇系膜,所述耐久性良好的聚乙烯醇系膜的制备原料包含聚乙烯醇系聚合物和增塑剂组合物,其特征在于,聚乙烯醇系聚合物分子结构中的等规立构含量(I)与间规立构含量(S)的比值1.5<I/S≤2.0。
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