[发明专利]掩模板框架、掩模板及其制作方法、张网机有效
| 申请号： | 201811291504.8 | 申请日： | 2018-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN109188856B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 洪忠庆 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;绵阳京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;C23C14/04;C23C16/04 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 张雨竹 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种掩模板框架、掩模板及其制作方法、张网机，涉及掩模板技术领域，可以使得对位测量更精准。一种掩模板框架，包括中空的框架主体，所述框架主体上设置有多个第一对位标记和多个第二对位标记；所述第一对位标记与所述第二对位标记一一对应，且所述第一对位标记与所述第二对位标记无交叠；所述第一对位标记设置于所述框架主体的一侧；所述第二对位标记为贯穿所述框架主体的通孔。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 框架 及其 制作方法 张网机 | ||
【主权项】：
1.一种掩模板框架，其特征在于，包括中空的框架主体，所述框架主体上设置有多个第一对位标记和多个第二对位标记；所述第一对位标记与所述第二对位标记一一对应，且所述第一对位标记与所述第二对位标记无交叠；所述第一对位标记设置于所述框架主体的一侧；所述第二对位标记为贯穿所述框架主体的通孔。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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