[发明专利]一种用于检测图形衬底的方法和装置在审
| 申请号： | 201811294679.4 | 申请日： | 2018-11-01 |
| 公开（公告）号： | CN109459417A | 公开（公告）日： | 2019-03-12 |
| 发明（设计）人： | 李彬彬;李瑞评;陈铭欣;霍曜;王振;陈富伟 | 申请（专利权）人： | 福建晶安光电有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/59 | 分类号： | G01N21/59;G01N21/55 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 362411 福建省*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 一种用于检测图形化处理的衬底的方法和装置，通过定义待分析衬底图形化表面自中心至边缘为多个独立的环形区域；选择一光源提供光束照射衬底，通过光学测量仪获取衬底每个环形区域内的多个位置的反射率值或透光率值；通过一控制单元，依据获取的每个环形区域内多个反射率值或透光率值计算出多个反射率或多个透光率平均值和偏差值，将多个反射率平均值或透光率平均值和多个偏差值与预设目标衬底反射率或透光率以及偏差值的阈值逐一相比较，判断所述待测晶片与所述目标晶片是否合格。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 反射率 透光率 环形区域 方法和装置 光学测量仪 图形化表面 图形化处理 光束照射 光源提供 目标晶片 预设目标 检测 晶片 分析 | ||
【主权项】：
1.一种用于检测图形化处理的衬底的方法，包括如下步骤：定义待分析衬底图形化表面自中心至边缘为多个独立的环形区域；选择一光源提供光束照射衬底，通过光学测量仪获取衬底每个环形区域内的多个位置的反射率值；通过一控制单元，依据获取的每个环形区域内的多个反射率值计算出每个环形区域内的反射率平均值和偏差值，将每个环形区域内的反射率平均值和偏差值与预设目标衬底反射率阈值一以及偏差值阈值一逐一相比较，判断所述待测晶片与所述目标晶片是否合格。
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