[发明专利]集成半导体装置在审

专利信息
申请号: 201811295405.7 申请日: 2018-11-01
公开(公告)号: CN109860170A 公开(公告)日: 2019-06-07
发明(设计)人: 彭成毅;吕俊颉;萧孟轩;叶凌彦;卡罗司·迪亚兹;李东颖 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/06 分类号: H01L27/06;H01L21/822
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 集成半导体装置包含第一半导体装置、层间介电层以及第二半导体装置。第一半导体装置具有第一晶体管结构。层间介电层是在第一半导体装置上。层间介电层的厚度实质为10nm至100nm。第二半导体装置是在层间介电层上且具有作为第二晶体管结构的通道层的二维材料层。
搜索关键词: 半导体装置 层间介电层 集成半导体装置 晶体管结构 二维材料 厚度实质 通道层
【主权项】:
1.一种集成半导体装置,其特征在于,包含:一第一半导体装置,具有一第一晶体管结构;一层间介电层,在该第一半导体装置上,其中该层间介电层的一厚度实质为10nm至100nm;以及一第二半导体装置,具有一第二晶体管结构,其中该第二半导体装置具有一二维材料层,且该二维材料层是形成在该层间介电层上并作为该第二晶体管结构的一通道层。
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