[发明专利]液体化学回收系统、供应系统和制造半导体装置的方法在审
| 申请号： | 201811300516.2 | 申请日： | 2018-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN110176408A | 公开（公告）日： | 2019-08-27 |
| 发明（设计）人： | 金伶厚;朴晟见;卢炫佑;车知勳;崔溶俊 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;B01D35/02;B01D35/16 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 刘灿强;董婷 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 提供了液体化学回收系统、液体化学供应系统和制造半导体装置的方法。液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至此的真空泵并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品并向外部提供作为回收的第一液体化学品的第二液体化学品，其中，缓冲槽包括提供第一液体化学品的第一注入部分以及将第一液体化学品提供到真空槽的第一供应部分，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。 | ||
| 搜索关键词： | 液体化学品 缓冲槽 液体化学 回收系统 真空槽 半导体装置 供应系统 真空泵 外部提供 物质积累 向下倾斜 回收槽 制造 回收 外部 | ||
【主权项】：
1.一种液体化学回收系统，所述液体化学回收系统包括：缓冲槽，从外部接收第一液体化学品；真空槽，具有连接至真空槽的真空泵，并使用真空泵从缓冲槽接收第一液体化学品；以及回收槽，从真空槽接收第一液体化学品，并向外部提供第二液体化学品，第二液体化学品是回收的第一液体化学品，其中，缓冲槽包括第一注入部分和第一供应部分，第一液体化学品被提供到第一注入部分，第一供应部分将第一液体化学品提供到真空槽，并且缓冲槽的底部朝向第一供应部分向下倾斜，以防止包含在第一液体化学品中的物质积累在缓冲槽中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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