[发明专利]一种高规整度原子气室制造方法有效

专利信息
申请号: 201811305896.9 申请日: 2018-11-02
公开(公告)号: CN109579812B 公开(公告)日: 2023-01-13
发明(设计)人: 李攀;刘元正;雷兴;李俊;蒋樱子;丁小昆;胡强 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司西安飞行自动控制研究所
主分类号: G01C19/60 分类号: G01C19/60
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 张毓灵
地址: 710076 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明属于光学精密加工技术,涉及一种高规整度原子气室的制造方法。本发明高规整度原子气室制造方法,在室温下,利用低温键合技术将事先加工好的气室支架与光学窗口依次键合,并加工原子气室加热面和冲排气嘴,形成高规整度气室。相对于现有原子气室制造方法,大幅提高气室的规整度,降低气室形状不规整引入的各项误差,同时减小激光波前畸变,具有加工精度高、对称性好、表面质量好的优点。
搜索关键词: 一种 规整 原子 制造 方法
【主权项】:
1.一种高规整度原子气室制造方法,其特征在于,在室温下,利用低温键合技术将事先加工好的气室支架与光学窗口依次键合,并加工原子气室加热面和冲排气嘴。
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