[发明专利]一种基于共线天线阵辐射理论构建可控的光针阵列方法有效

专利信息
申请号: 201811311295.9 申请日: 2018-11-06
公开(公告)号: CN109343290B 公开(公告)日: 2021-11-02
发明(设计)人: 余燕忠;曾雨婷 申请(专利权)人: 泉州师范学院
主分类号: G02F1/29 分类号: G02F1/29
代理公司: 福州元创专利商标代理有限公司 35100 代理人: 蔡学俊
地址: 362000 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 发明涉及一种基于共线天线阵辐射理论构建可控的光针阵列方法,通过逆向聚焦位于4π聚焦系统焦区的虚拟共线天线阵的辐射场来实现,该天线阵各单元沿光轴方向放置,且各单元电流沿光轴方向均匀分布。第n段光针的长度及中心位置仅分别取决于共线阵中第n个阵元的长度及坐标位置。光针阵列中的光针数量等于天线阵中的阵元数目。每段光针是强纵向偏振且横向半高宽在整个焦深范围保持不变。本发明所产生的光针阵列可望用于多粒子加速、诱捕和操纵等。
搜索关键词: 一种 基于 共线 天线阵 辐射 理论 构建 可控 阵列 方法
【主权项】:
1.一种基于共线天线阵辐射理论构建可控的光针阵列方法,其特征在于:包括以下步骤:步骤S1:采用两个高数值孔径透镜组成4π聚焦系统;步骤S2:在步骤S1的4π聚焦系统中,以其焦点为中心并沿z轴放置一虚拟共线天线阵;步骤S3:所述虚拟共线天线阵从4π聚焦系统焦点向外辐射电场,其电场由两个高数值孔径物镜收集并传播到透镜的光瞳平面上,并通过求解逆向问题推导出光瞳平面上的场分布步骤S4:以光瞳平面上的场分布作为光瞳平面处的入射光场,反向聚焦到4π聚焦系统的焦点处,在焦区附近得到具有预定特性的光针阵列。
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