[发明专利]光刻方法

摘要

本发明提供了一种光刻方法，能够利用简单的工艺过程，解决光刻胶与介质层酸碱不平衡时的底部站脚问题，该方法具体包括以下步骤：提供衬底；在衬底之上形成介质层，介质层表面具有碱性基团；进行对介质层的紫外固化，以至少部分去除碱性基团；在进行对介质层的紫外固化之后，在介质层上涂敷光刻胶。利用紫外固化工艺对介质层进行处理，能够有效降低介质层表面的碱性基团浓度，解决光刻胶与介质层酸碱不平衡的问题，此外，紫外固化工艺简单方便，无需增加额外的沉积刻蚀步骤，大大降低了制造工艺的复杂程度和成本；再者，紫外固化工艺在调节介质层表面特性的同时，还能够降低介质层杂质含量，提高介质材料的纯度，提升器件性能。

主权项

1.一种光刻方法，其特征在于，包括以下步骤：提供衬底；在所述衬底之上形成介质层，所述介质层表面具有碱性基团；进行对所述介质层的紫外固化，以至少部分去除所述碱性基团；在进行对所述介质层的紫外固化之后，在所述介质层上涂敷光刻胶。