[发明专利]电磁波屏蔽膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201811320751.6 | 申请日： | 2018-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN109526193B | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 由龙;赵伟业;林翠盈;顾婧文 | 申请（专利权）人： | 深圳科诺桥科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K9/00 | 分类号： | H05K9/00;C23C14/34;C23C14/16;C23C14/20 |
| 代理公司： | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人： | 张全文 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市大鹏*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于电子技术领域，尤其涉及一种电磁波屏蔽膜的制备方法，包括：获取载体层，在所述载体层的一表面制备保护层；在所述载体层远离所述保护层的表面真空溅射形成金属叠层，其中，所述金属叠层包括依次层叠设置在所述载体层远离所述保护层的表面的第一金属保护层、金属功能层和第二金属保护层。本发明实施例提供的电磁波屏蔽膜的制备方法，采用涂覆方法在载体层一侧形成保护层，再采用真空溅射方法在载体层的另一侧形成金属叠层，真空溅射可以通过控制溅射时间、速度控制膜层厚度，实现形成金属叠层薄膜，减少生产原料的使用。且真空溅射形成的金属叠层，成膜速度快，膜层均匀，稳定性好，膜层不易脱落，制备工艺简单。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁波 屏蔽 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种电磁波屏蔽膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：获取载体层，在所述载体层的一表面制备保护层；在所述载体层远离所述保护层的表面真空溅射形成金属叠层，其中，所述金属叠层包括依次层叠设置在所述载体层远离所述保护层的表面的第一金属保护层、金属功能层和第二金属保护层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳科诺桥科技股份有限公司，未经深圳科诺桥科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811320751.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
