[发明专利]一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件及其方法在审
申请号: | 201811323932.4 | 申请日: | 2018-11-08 |
公开(公告)号: | CN109270476A | 公开(公告)日: | 2019-01-25 |
发明(设计)人: | 魏榕山;杜宇轩;刘莉莉 | 申请(专利权)人: | 福州大学 |
主分类号: | G01R33/07 | 分类号: | G01R33/07;G01R33/02 |
代理公司: | 福州元创专利商标代理有限公司 35100 | 代理人: | 蔡学俊 |
地址: | 350108 福建省福州市闽*** | 国省代码: | 福建;35 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件,其特征在于:所述霍尔器件为完全对称的两个十字结构的深N阱;所述十字结构的深N阱的四个端和中心分别设置有重掺杂的N+区层,所述四个端点重掺杂的N+区层与中心重掺杂的N+区层之间均设置有高掺杂的P+区层。本发明采用高压CMOS工艺制备,具备了较深的N阱,提高了器件的灵敏度,在时序的控制下,可分时对三个轴向上的磁感应强度进行侦测,相比于分立式的三维霍尔器件,大大减小了版图面积。 | ||
搜索关键词: | 霍尔器件 重掺杂 三维 霍尔传感器 十字结构 深N阱 时序 高压CMOS 工艺制备 灵敏度 磁感应 高掺杂 可分时 减小 侦测 应用 对称 | ||
【主权项】:
1.一种应用于三维霍尔传感器的霍尔器件,其特征在于:所述霍尔器件为完全对称的两个十字结构的深N阱;所述十字结构的深N阱的四个端和中心分别设置有重掺杂的N+区层,所述四个端点重掺杂的N+区层与中心重掺杂的N+区层之间均设置有高掺杂的P+区层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于福州大学,未经福州大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811323932.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:高速磁浮长定子牵引行波磁场检测系统
- 下一篇:电磁铁反应时间测试装置及其方法