[发明专利]曝光系统、曝光方法及显示用面板基板的制造方法

摘要

本发明提供一种不大幅增加设备或步骤，于单片基板将尺寸相异的图样以高位置精度曝光的曝光系统，包含于经涂布于基板的光阻，以指定的间隔形成多个基板标记的标记装置、及多个曝光装置。多个曝光装置分别自图像取得装置所取得的屏蔽标记及基板标记的图像，检测出屏蔽标记与基板标记的偏移量，使用激光测量装置，检测平台位置，对应检测出的该偏移量，进行屏蔽标记与基板标记的位置校准，进行屏蔽与基板的相对位置定位，基于激光测量装置的检测结果，控制图样于基板曝光的位置，于基板进行图样的曝光，将尺寸相异的图样于基板曝光。

主权项

1.一种曝光系统，包含标记装置，于经涂布于基板的光阻上，以指定的间隔形成多个基板标记；以及多个曝光装置，于该基板曝光图样，其中，多个该曝光装置，分别包含屏蔽架，用以支承屏蔽，该屏蔽的尺寸较该基板小，且形成有该图样及多个屏蔽标记，该屏蔽标记以与该基板标记为相同间隔所形成；夹盘，用以搭载该基板，该基板形成有多个该基板标记；平台，使该屏蔽架及该夹盘相对地移动；驱动电路，用以驱动该平台；图像取得装置，用以取得该屏蔽标记及该基板标记的图像，并将取得的图像的图像讯号输出；图像处理装置，用以将自该图像取得装置输出的该图像讯号予以处理，而检测出该屏蔽标记与该基板标记的偏移量；激光测量装置，用以检测出该平台的位置；及控制装置，用以控制该驱动电路，对应通过该图像处理装置所检测出的该屏蔽标记与该基板标记的偏移量，使该平台移动以进行该屏蔽标记与该基板标记的位置校准，而进行该屏蔽及该基板的相对位置定位，之后基于该激光测量装置的检测结果，使该平台移动以将该图样控制于该基板曝光的位置，其中，该曝光系统将彼此为相异尺寸的该图样于该基板曝光。