[发明专利]衬底支架、光刻装置、器件制造方法和制造衬底保持器的方法在审
| 申请号： | 201811325912.0 | 申请日： | 2013-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN109254501A | 公开（公告）日： | 2019-01-22 |
| 发明（设计）人： | R·拉法雷;S·唐德斯;N·坦凯特;N·德齐奥姆基纳;Y·卡瑞德;E·罗登伯格 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;郑振 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 一种用于光刻装置的衬底支架，包括具有提供在其表面上的薄膜叠层的主体。薄膜叠层形成电子或电气组件，如电极、传感器、加热器、晶体管或逻辑器件，并且具有顶部隔离层。用于支承衬底(W)的多个粒结形成在薄膜叠层上或薄膜叠层的孔径中。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜叠层 衬底支架 光刻装置 加热器 衬底保持器 电气组件 器件制造 电极 隔离层 或逻辑 传感器 晶体管 衬底 粒结 支承 制造 | ||
【主权项】：
1.一种提供用于光刻装置的衬底保持器的方法，所述衬底保持器具有用于支撑衬底的多个突节，并且具有拥有粗糙上表面的突节，所述方法包括：研磨所述突节的所述粗糙上表面以便提供平滑表面，并且在所述平滑表面的顶部上添加层，以使得其高度大于所述多个突节的高度。
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