[发明专利]一种电子元器件和模组的封装工艺在审

专利信息
申请号: 201811333879.6 申请日: 2018-11-09
公开(公告)号: CN109686802A 公开(公告)日: 2019-04-26
发明(设计)人: 黄双武;韩辉升;卢健;陈丙青 申请(专利权)人: 惠州凯珑光电有限公司
主分类号: H01L31/048 分类号: H01L31/048;H01F27/02;H04N5/225;E05B19/00
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 邓聪权
地址: 516005 广东省惠州市东江*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了电子元器件和模组的封装工艺,包括以下步骤:(1)将干净的电子元器件或模组放入真空室中,在包含有机硅化合物的气体存在的条件下,对电子元器件或模组进行等离子体处理;(2)通过热裂解或光裂解的方法,使对环芳烷或其卤代物分解成双自由基前体,将双自由基前体引入真空室中,制备聚对二甲苯薄膜,并使该薄膜涂覆在电子元器件或模组的表面上。本发明的封半工艺所用的步骤简单,设备紧凑,粘合增进效果明显,量产稳定性高;当处理完后敷上聚对二甲苯薄膜,使得电子元器件和模组有很好的密封性、防水性、耐腐蚀性等,由此使得电子元器件和模组的使用寿命延长。
搜索关键词: 电子元器件 模组 聚对二甲苯薄膜 自由基前体 封装工艺 真空室 等离子体处理 使用寿命延长 有机硅化合物 耐腐蚀性 防水性 环芳烷 卤代物 密封性 热裂解 粘合 放入 量产 裂解 涂覆 薄膜 制备 紧凑 分解 引入
【主权项】:
1.一种电子元器件和模组的封装工艺,其特征在于,包括以下步骤:(1)将干净的电子元器件或模组放入真空室中,在包含有机硅化合物的气体存在的条件下,对电子元器件或模组进行等离子体处理;(2)通过热裂解或光裂解的方法,使对环芳烷或其卤代物分解成双自由基前体,将双自由基前体引入真空室中,制备聚对二甲苯薄膜,并使该薄膜涂覆在电子元器件或模组的表面上。
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