[发明专利]光学邻近修正和光掩模

摘要

本文提供了用于执行光学邻近修正和用于形成光掩模的技术的各个实例。在一些实例中，接收布局，布局包括要在光掩模上形成的形状。确定用于形状的多个目标光刻轮廓，多个目标光刻轮廓包括用于第一组工艺条件的第一目标轮廓和用于第二组工艺条件的与第一目标轮廓不同的第二目标轮廓。执行布局的光刻模拟以在第一组工艺条件下产生第一模拟轮廓，并且在第二组工艺条件下产生第二模拟轮廓。基于第一模拟轮廓和第一目标轮廓之间以及第二模拟轮廓和第二目标轮廓之间的边缘放置误差确定对布局的修改。本发明的实施例还涉及光学邻近修正和光掩模。

主权项

1.一种制造光掩模的方法，包括：接收布局，所述布局包括要在光掩模上形成的形状；确定用于所述形状的多个目标光刻轮廓，其中，所述多个目标光刻轮廓包括用于第一组工艺条件的第一目标光刻轮廓和用于第二组工艺条件的与所述第一目标光刻轮廓不同的第二目标光刻轮廓；执行所述布局的光刻模拟以在所述第一组工艺条件下产生第一模拟轮廓，并且在所述第二组工艺条件下产生第二模拟轮廓；在所述第一模拟轮廓和所述第一目标光刻轮廓之间确定第一边缘放置误差，并且在所述第二模拟轮廓和所述第二目标光刻轮廓之间确定第二边缘放置误差；基于所述第一边缘放置误差和所述第二边缘放置误差确定对所述布局的修改；以及提供具有所述修改的所述布局以用于制造所述光掩模。