[发明专利]一种曝光装置

摘要

本发明公开了一种曝光装置，包括掩膜台，位于掩膜台上的掩膜版，所述掩膜版上绘制有若干个曝光图形，所述掩膜版上方于曝光图形的对应位置分别设置有曝光光源，所述掩膜台下方设置有固定载台和位于固定载台上的基材，所述基材的尺寸与掩膜版的尺寸相当，所述掩膜版与基材之间设置有若干个投影物镜，所述投影物镜与掩膜版上的曝光图形位置相对应。本发明的曝光装置将多个曝光图形绘制在同一个掩膜版上，采用多个投影物镜代替一个大尺寸的投影物镜，将掩膜版上的曝光图形分别经过对应的投影物镜，成像在基材上，无需载台移动，避免昂贵的移动式曝光载台的使用，降低了生产成本，同时保证了加工精度。