[发明专利]掩模版有效
| 申请号： | 201811338402.7 | 申请日： | 2018-11-12 |
| 公开（公告）号： | CN109207920B | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 白珊珊 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩模版，属于显示技术领域，其可至少部分解决现有的掩模版在划分低密度开口区和高密度开口区后，张网时难于精确控制图形开口的形状和位置的问题。本发明的掩模版包括至少一个图形区，每个图形区包括在沿掩模版的长度方向上相邻的低密度开口区和高密度开口区，每个低密度开口区和每个高密度开口区中均有多个贯通的图形开口，其中，在高密度开口区内图形开口的面积之和占高密度开口区总面积的比例大于在低密度开口区内图形开口的面积之和占低密度开口区总面积的比例，在低密度开口区的图形开口的间隙处，还设置有未贯通的补偿凹槽。 | ||
| 搜索关键词： | 模版 | ||
【主权项】：
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